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      磁控濺射技術原理及應用簡介
      磁控濺射技術原理及應用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優點。傳統的濺射技術的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁......
      集成電路自動化裝備-探針臺是晶圓測試領域研究的熱點。由于晶圓片上晶粒很小,達到微米級,所以要求探針臺要保持很高的定位精度和運動精度才能保證探針與晶粒的準確對針和測試。因此,本文主要研究的問題是如何保證探針臺高精密控制,從而達到微米級定位要求。本文來自于國家02專項-面向12”晶圓片的全自動探針臺關鍵技術研究......
      紅外熱成像技術由于自身各種優勢在軍事領域和民用領域有著廣闊的應用前景,因此備受各國重視,競相發展相關技術。由于國外對紅外熱成像技術的研究比較早,而我國在紅外熱成像技術領域起步較晚,所以差距很大。近年來我國在紅外熱成像技術的相關領域取得了一些進展,但很多方面還是遠遠落后于世界水平。因此,還需要加快紅外熱成像技術的研究。本......
      Q1:什么是PVD?真空電鍍加工真空鍍膜技術A1:PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。鄭州科探儀器設備有限公司新研發一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺式加熱功......
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