<del id="7vzpd"></del>

<strike id="7vzpd"></strike>

    <thead id="7vzpd"></thead>
    <big id="7vzpd"></big><video id="7vzpd"></video>

      您的位置: 首頁 > 產品中心 > 實驗室搭建 > PECVD 射頻模塊
      • 上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積
        上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過反應氣態放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點,工藝流程簡單,與傳統CVD系統比較,生長溫度更低,管輝光均勻等效,薄膜均勻沉積。
        更新時間:2021-06-16型號:廠商性質:生產廠家
        現在聯系
      • KT-PE500ZPECVD射頻模塊
        PECVD射頻模塊通過反應氣態放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點,工藝流程簡單,與傳統CVD系統比較,生長溫度更低,管輝光均勻等效,薄膜均勻沉積。
        更新時間:2020-04-02型號:KT-PE500Z廠商性質:生產廠家
        現在聯系
      共 2 條記錄,當前 1 / 1 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉到第頁 
      Contact Us
      • QQ:1741240035
      • 郵箱:760625767@qq.com
      • 傳真:
      • 地址:中原區西三環電廠路創新園6號樓

      掃一掃  微信咨詢

      ©2022 鄭州科探儀器設備有限公司 版權所有    備案號:豫ICP備16005325號-2    技術支持:化工儀器網    Sitemap.xml    總訪問量:54169    管理登陸

      中文人妻无码一区二区三区
      <del id="7vzpd"></del>

      <strike id="7vzpd"></strike>

        <thead id="7vzpd"></thead>
        <big id="7vzpd"></big><video id="7vzpd"></video>